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2024-06-19,星期三
背景介紹
上海市某半導體廠,專注于研發和制造專業應用的晶圓。晶圓生產工藝復雜,其中蝕刻工序使用氫氟酸溶液進行蝕刻、并用高純水清洗,在這個工序中產生了大量的高濃度含氟廢水,含氟廢水經過加藥、混凝沉淀處理后達標排放。
該半導體廠在總排口處安裝了一臺FBM-160 氟離子濃度分析儀。根據國標《污水綜合排放標準》(GB8978-1996)以及上海市環境保護局發布的地方標準《半導體行業污染物排放標準》(DB31),該半導體廠執行三級標準,其總排口的氟限值為 20mg/L。
氟離子濃度分析儀的現場圖如下圖所示,控制器采用管式安裝,電極采用浸入式安裝。
應用情況
FBM-160 氟離子濃度分析儀采用氟離子選擇電極法,監測方法符合國標 GB7484-1987。氟離子濃度分析儀結構簡單,氟離子電極現場采用浸入式安裝,在無選配自動清洗組件的前提下,每月人工清洗一次電極,三個月校準一次電極。在正常維護條件下,每年更換一次氟離子電極?,F場安裝方便,維護較簡單,測量值均低于 20 mg/L,和實驗室比對數據良好,符合用戶的測量要求。
總結
FBM-160 氟離子濃度分析儀采用國標方法監測——氟離子選擇電極法,不消耗試劑,可更換電極頭,減少維護費用;安裝簡單,可在現場采用浸入池中安裝,也可以在排口采用流通式安裝??蛇x配自清洗組件,減少用戶的人工清洗工作;具備多個量程,0~99.9 mg/L;0~999 mg/L或0~9990 mg/L,滿足含氟廢水進排口的不同測量范圍需求。
FBM-160 氟離子濃度分析儀廣泛應用于電子行業的含氟廢水監測,在正常維護下,能夠滿足用戶廢水總排口的測量需求。
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